智能檢測(cè)技術(shù)在線路板生產(chǎn)中的應(yīng)用
半導(dǎo)體封裝技術(shù)與線路板的結(jié)合
微型化趨勢(shì)對(duì)線路板設(shè)計(jì)的影響
線路板回收技術(shù)的發(fā)展現(xiàn)狀
PCB高頻材料在高頻線路板中的重要性
工業(yè) 4.0 背景下線路板制造的轉(zhuǎn)型
PCB柔性線路板技術(shù)的進(jìn)展
全球供應(yīng)鏈變動(dòng)對(duì)線路板行業(yè)的影響
AI 技術(shù)在線路板生產(chǎn)中的應(yīng)用
PCB新能源汽車(chē)對(duì)線路板技術(shù)的影響
EVG ® 610特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8''
頂側(cè)和底側(cè)對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持**/新的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 610附加功能:
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻(NIL)
EVG ® 610技術(shù)數(shù)據(jù):
對(duì)準(zhǔn)方式
上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm
底面要求:≤±2,0 μm
紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基板材料
鍵對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm
NIL對(duì)準(zhǔn):≤±2,0 μm EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻。EVG6200光刻機(jī)推薦型號(hào)
IQ Aligner®
■ 晶圓規(guī)格高達(dá)200 mm / 300 mm
■ 某一時(shí)間內(nèi)
(第/一次印刷/對(duì)準(zhǔn))> 90 wph / 80 wph
■ 頂/底部對(duì)準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 0.5 μm / ± 1.0 μm
■ 接近過(guò)程100/%無(wú)觸點(diǎn)
■ 可選Ergoload 磁盤(pán),SMIF或者FOUP
■ 精/準(zhǔn)的跳動(dòng)補(bǔ)償,實(shí)現(xiàn)**/佳的重疊對(duì)準(zhǔn)
■ 手動(dòng)裝載晶圓的功能
■ IR對(duì)準(zhǔn)能力–透射或者反射
IQ Aligner® NT
■ 零輔助橋接工具-雙基片,支持200mm和300mm規(guī)格
■ 無(wú)以倫比的吞吐量(第/一次印刷/對(duì)準(zhǔn)) > 200 wph / 160 wph
■ 頂/底部對(duì)準(zhǔn)精度達(dá)到 ± 250 nm / ± 500 nm
■ 接近過(guò)程100/%無(wú)觸點(diǎn)
■ 暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)能力/ 全場(chǎng)清/除掩模(FCMM)
■ 精/準(zhǔn)的跳動(dòng)補(bǔ)償,實(shí)現(xiàn)**/佳的重疊對(duì)準(zhǔn)
■ 智能過(guò)程控制和性能分析框架軟件平臺(tái) 河南高級(jí)封裝光刻機(jī)新型的EVG120帶有通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具,能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基片。
EVG的光刻機(jī)技術(shù):EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)器的高產(chǎn)能,接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓,可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并配有用于從上到下的側(cè)面對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的度量工具。
EVG不斷展望未來(lái)的市場(chǎng)趨勢(shì),因此提供了針對(duì)特定應(yīng)用的解決方案,尤其是在光學(xué)3D傳感和光子學(xué)市場(chǎng)中,其****的EVG的工藝和材料專業(yè)知識(shí)-源自對(duì)各種光刻膠材料進(jìn)行的廣/泛優(yōu)化研究。了解客戶需求并提供有效的全球支持是EVG光刻解決方案成功的重要因素。
EVG770自動(dòng)UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī),用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,里面完全裝有微透鏡模具,每個(gè)模具都采用分步重復(fù)的方法從一個(gè)透鏡模板中復(fù)制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開(kāi)始,提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,具有****的鏡片位置精度和**鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級(jí)相機(jī)模塊。
IQ Aligner自動(dòng)UV-NIL納米壓印系統(tǒng),用于UV微透鏡成型。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡(WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素)的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開(kāi)始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識(shí)。
EVG40 NT自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測(cè)量,計(jì)量對(duì)于驗(yàn)證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸(CD)測(cè)量和透鏡疊層對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證,以及許多其他應(yīng)用。 只有以客戶的需求為導(dǎo)向,研發(fā)才具有價(jià)值,也是我們不斷前進(jìn)的動(dòng)力。
EVG光刻機(jī)簡(jiǎn)介
EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻,對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開(kāi)創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過(guò)不斷開(kāi)發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來(lái)為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),以增強(qiáng)**重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300 mm的不同的尺寸,形狀和厚度的晶圓和基片,同時(shí)為高級(jí)應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性。EVG光刻機(jī)的掩模對(duì)準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,可在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中找到,包括高級(jí)封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS。 在全球范圍內(nèi),我們?yōu)樵S多用戶提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng),并得到了他們的無(wú)數(shù)好評(píng)。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)推薦型號(hào)
EVG610 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),支持的晶圓尺寸:100 mm / 150 mm / 200 mm。EVG6200光刻機(jī)推薦型號(hào)
EVG620 NT特征2:
自動(dòng)原點(diǎn)功能,用于對(duì)準(zhǔn)鍵的精確居中
具有實(shí)時(shí)偏移校正功能的動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)功能
支持**/新的UV-LED技術(shù)
返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)
自動(dòng)化系統(tǒng)上的手動(dòng)基板裝載功能
可以從半自動(dòng)版本升級(jí)到全自動(dòng)版本
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)
先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性
便捷處理和轉(zhuǎn)換重組
遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性
EVG620 NT附加功能:
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻(NIL) EVG6200光刻機(jī)推薦型號(hào)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司屬于儀器儀表的高新企業(yè),技術(shù)力量雄厚。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會(huì)”的經(jīng)營(yíng)理念;“誠(chéng)守信譽(yù),持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質(zhì)量的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來(lái),一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會(huì)各界的普遍認(rèn)可與大力支持。