該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶(hù)的專(zhuān)門(mén)需求，公司對(duì)這些聚合物作出調(diào)整，使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境，在較短的生產(chǎn)周期時(shí)間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外，DELO紫外線(xiàn)LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商，總部位于德國(guó)慕尼黑附近的Windach。在美國(guó)、中國(guó)、新加坡及日本均設(shè)有子公司。2019財(cái)政年，公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機(jī)與超過(guò)一半的汽車(chē)上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶(hù)包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門(mén)子以及索尼等。關(guān)于EVGroup(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為生產(chǎn)半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件以及納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的**供應(yīng)商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術(shù)（NIL）與計(jì)量設(shè)備，，以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)與檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)創(chuàng)辦于1980年，可為遍及全球的眾多客戶(hù)與合作伙伴提供各類(lèi)服務(wù)與支持。SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。光刻納米壓印微流控應(yīng)用
IQ Aligner®：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用
■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用
■三個(gè)**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償
■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線(xiàn)粘合功能
紫外線(xiàn)壓印_紫外線(xiàn)固化
印章
防紫外線(xiàn)基材
附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記
用紫外線(xiàn)可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過(guò)UV光交聯(lián)。
μ-接觸印刷
軟印章
基板上的材料
領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章
低溫納米壓印技術(shù)服務(wù)IQ Aligner UV-NIL是自動(dòng)化紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)，是用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。
EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級(jí)光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®
簡(jiǎn)單實(shí)施不同種類(lèi)的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償
可選的自動(dòng)盒帶間處理
EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線(xiàn)）> 100 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm
較早印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區(qū)域：長(zhǎng)達(dá)50 x 50毫米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。
*分辨率取決于過(guò)程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。
EVG ® 6200 NT特征：
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序，可分配的訪(fǎng)問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG ® 6200 NT附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200 mm
柔軟的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線(xiàn)LED光源
對(duì)準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米
自動(dòng)分離：柔紫外線(xiàn)NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造。山西納米壓印美元價(jià)
岱美儀器代理的SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù)，可用于顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。光刻納米壓印微流控應(yīng)用
HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線(xiàn)）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
光刻納米壓印微流控應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶(hù)提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，一切以用戶(hù)需求為中心，深受廣大客戶(hù)的歡迎。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn)，發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì)，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專(zhuān)業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。