CMOS納米壓印質(zhì)保期多久

來源: 發(fā)布時間:2020-04-08

EVG ® 7200 LA特征:

專有SmartNIL ®技術(shù),提供了****的印跡形大面積

經(jīng)過驗證的技術(shù),具有出色的復制保真度和均勻性

多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本

強大且精確可控的處理

與所有市售的壓印材料兼容


EVG ® 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(比較大Gen3)(550 x 650毫米)

解析度:40 nm-10 μm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率窄帶(> 400 mW /cm2)

對準:可選的光學對準:≤±15 μm

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的


工作印章制作:支持的


EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。CMOS納米壓印質(zhì)保期多久

    具體說來就是,MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動,因為標準的半導體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平(硅中摻雜以帶來或正或負的電荷),以確??绺鹘M件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅(SiO2)襯底上,然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控,摻雜有時會泄到別的不需要的地方,那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域,并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手(包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等),開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形,從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。(來自網(wǎng)絡。廣東芯片納米壓印岱美儀器代理的SmartNIL是一項關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應用中的許多新創(chuàng)新。

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。


EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)


HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。 SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量。

EVG610特征:

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術(shù)

**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

分步流程指導

遠程技術(shù)支持

多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版


EVG610附加功能:

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷


EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸)

標準光刻:比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL:比較大150毫米的碎片

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:汞光源或紫外線LED光源

自動分離:不支持

工作印章制作:外部


EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場**設(shè)備供應商。遼寧納米壓印供應商家

EVG的納米壓印光刻(NIL) - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。CMOS納米壓印質(zhì)保期多久

關(guān)于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導的全球**設(shè)計商和制造商,衍射波導是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學組件。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源,以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。

WaveOptics的波導技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框,雙目觀察和高視野。眼圖框(查看窗口)是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導提供清晰,無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像。

      WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè),企業(yè)和消費者市場的沉浸式AR體驗。該公司的目標是,憑借其獨特的技術(shù)和專業(yè)知識,其波導將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學組件,以實現(xiàn)****的制造可擴展性和視覺性能,并為眾多應用提供多功能性。 CMOS納米壓印質(zhì)保期多久

岱美儀器技術(shù)服務(上海)有限公司一直專注于磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務,國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】,是一家儀器儀表的企業(yè),擁有自己**的技術(shù)體系。公司目前擁有專業(yè)的技術(shù)員工,為員工提供廣闊的發(fā)展平臺與成長空間,為客戶提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務,深受員工與客戶好評。誠實、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求,也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。公司憑著雄厚的技術(shù)力量、飽滿的工作態(tài)度、扎實的工作作風、良好的職業(yè)道德,樹立了良好的磁記錄,半導體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)形象,贏得了社會各界的信任和認可。