半導(dǎo)體納米壓印價格怎么樣

來源: 發(fā)布時間:2020-04-05

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說:“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn),幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù),我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo客戶IP的強大政策的框架內(nèi),我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?!?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業(yè),企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用,并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG620 NT是以其靈活性和可靠性而聞名的,因為它以**小的占位面積提供了***的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。半導(dǎo)體納米壓印價格怎么樣

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。

注:*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 EVG納米壓印美元價格SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量。

納米壓印應(yīng)用一:鏡片成型

晶圓級光學(xué)(WLO)的制造得到EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復(fù)制來的工作印模,通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學(xué)聚合物材料中。EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝,可以輕松地適應(yīng)各種材料組合,以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復(fù)制的優(yōu)先。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


納米壓印應(yīng)用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。


納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法,因為它不受光學(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能(包括****的易用性)以及高水平的工藝專業(yè)知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板 NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當(dāng)有成本效益的方法。EVG納米壓印技術(shù)支持

EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。半導(dǎo)體納米壓印價格怎么樣

    納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認NIL設(shè)備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設(shè)備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。半導(dǎo)體納米壓印價格怎么樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司是一家其他型類企業(yè),積極探索行業(yè)發(fā)展,努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。公司是一家有限責(zé)任公司企業(yè),以誠信務(wù)實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊、踏實的職工隊伍,努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則,致力于提供高質(zhì)量的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品,為彼此贏得全新的未來!