EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)
NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗證的創(chuàng)新孵化器。
歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。
EVG?770可用于連續(xù)重復的納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作。本地納米壓印高性價比選擇
UV-NIL / SmartNIL 納米壓印系統(tǒng)
EV Group為基于紫外線的納米壓印光刻（UV-NIL）提供完整的產(chǎn)品線，包括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL，EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效，強大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度，高度均勻的圖案層和**少的殘留層，并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期承諾，即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能，低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。
這個系列的型號包括：EVG®610；EVG®620NT；EVG®6200NT；EVG®720；EVG®7200；EVG®7200LA；HERCULES®NIL；EVG®770；IQAligner®。 量產(chǎn)納米壓印芯片堆疊應用分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。
其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個國家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為?？偛课挥诘聡酪虼牡哪腹維CHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史**悠久的私立基金會之一，同時也是德國規(guī)模比較大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環(huán)境負有特殊責任。關(guān)于EV集團（EVG）EV集團（EVG）是為半導體、微機電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的**供應商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓?。∟IL）與計量設(shè)備，以及涂膠機、清洗機和檢測系統(tǒng)。EV集團成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò)提供各類服務與支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup標識是EVGroup的注冊商標,SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊商標。（來自網(wǎng)絡(luò)。
EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)
特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足比較高要求
EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務有限公司。 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。
EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
用于大面積****的共形納米壓印光刻。
EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。
SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設(shè)備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。
*分辨率取決于過程和模板 EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。江蘇晶圓片納米壓印
SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設(shè)備生產(chǎn)。本地納米壓印高性價比選擇
納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：
新應用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm
資料來源：EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG 本地納米壓印高性價比選擇
岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司是一家其他型類企業(yè)，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。公司是一家有限責任公司企業(yè)，以誠信務實的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團隊、踏實的職工隊伍，努力為廣大用戶提供***的產(chǎn)品。公司始終堅持客戶需求優(yōu)先的原則，致力于提供高質(zhì)量的磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務將以真誠的服務、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品，為彼此贏得全新的未來！