EVG ® 6200 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 6200 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
智能NIL ®
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：75至200 mm
柔軟的UV-NIL：75至200毫米
SmartNIL ®：**多至150mm
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持
EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng)，大面積壓印機，微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。原裝進口納米壓印國內(nèi)代理
EVG ® 620 NT特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形補償序列
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG ® 620 NT附加功能：
鍵對準
紅外對準
SmartNIL
μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
標準光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
SmartNIL ®：在100毫米范圍
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL
®
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
對準：
軟NIL：≤±0.5 μm
SmartNIL ®：≤±3微米
自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL
®：支持
工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部：SmartNIL ®：支持
低溫納米壓印高性價比選擇岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。
NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應鏈的就緒性?！痹诖酥?，使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學應用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設(shè)備和應用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。
具體說來就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動，因為標準的半導體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來或正或負的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時會泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應”區(qū)域，并導致性能下降。一個典型MOSFET不同層級的剖面圖。不過威斯康星大學麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個合作伙伴攜手（包括密歇根大學、德克薩斯大學、以及加州大學伯克利分校等），開發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來更加“物理可控”的生產(chǎn)過程。（來自網(wǎng)絡。EVG ? 520 HE是熱壓印系統(tǒng)。
EVG ® 6200 NT是SmartNIL
UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術(shù)范圍達150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱，以**小的占地面積提供了**
新的掩模對準技術(shù)。操作員友好型軟件，**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境（半自動批量生產(chǎn)）的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。
HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。重慶納米壓印可以試用嗎
EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。原裝進口納米壓印國內(nèi)代理
面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產(chǎn)的時程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡。原裝進口納米壓印國內(nèi)代理
岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，擁有一支專業(yè)的技術(shù)團隊。在岱美儀器技術(shù)服務近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務等。公司堅持以客戶為中心、磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】市場為導向，重信譽，保質(zhì)量，想客戶之所想，急用戶之所急，全力以赴滿足客戶的一切需要。誠實、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造***的磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。