NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負(fù)責(zé)人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當(dāng)今和未來**AR/MR設(shè)備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關(guān)重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當(dāng)今300-mm高折射率玻璃制造的設(shè)備和供應(yīng)鏈的就緒性?！痹诖酥?，使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學(xué)應(yīng)用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設(shè)備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設(shè)備和應(yīng)用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設(shè)備的光學(xué)器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設(shè)備、納米光子學(xué)和等離子電子學(xué)。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級光學(xué)（WLO）的制造。晶圓納米壓印有哪些應(yīng)用
EVG ® 510 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印
完全由軟件控制的流程執(zhí)行
閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項
外部浮雕和冷卻站
EVG ® 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù)：
加熱器尺寸：150毫米 ，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：單芯片，100毫米
比較大接觸力：10、20、60 kN
比較高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C
夾盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
重慶襯底納米壓印EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復(fù)制（制造）的***選擇。
EVG ® 720自動SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)
EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu)，具有****的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）。
*分辨率取決于過程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng)，獲得更多信息。
對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征：
頂部和底部對準(zhǔn)能力
高精度對準(zhǔn)臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能：
鍵對準(zhǔn)
紅外對準(zhǔn)
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準(zhǔn)選項。
納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。
EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。芯片納米壓印價格怎么樣
SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。晶圓納米壓印有哪些應(yīng)用
SmartNIL技術(shù)簡介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進步。
晶圓納米壓印有哪些應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個細(xì)節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計、強大的技術(shù)，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點競爭力。