美國輪廓儀廠家

來源: 發(fā)布時間:2020-02-14

輪廓儀的性能 

測量模式

移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)

樣 品 臺

150mm/200mm/300mm 樣品臺(可選配)

XY 平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,傾斜:±5°

可選手動/電動樣品臺

CCD 相機像素

標配:1280×960

視場范圍

560×750um(10×物鏡)

具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機

光學(xué)系統(tǒng)

同軸照明無限遠干涉成像系統(tǒng)

光 源

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦(可選電動聚焦)

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機械掃描,拓展達 10mm )

縱向分辨率 <0.1nm

RMS 重復(fù)性* 0.005nm,1σ

臺階測量** 準確度 ≤0.75%;重復(fù)性 ≤0.1%,1σ

橫向分辨率 ≥0.35um(100 倍物鏡)

檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD  共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤、帶有壓電驅(qū)動器的物鏡和CCD相機。美國輪廓儀廠家

    超納輪廓儀的主設(shè)計簡介:

中組部第十一批“****”****,美國KLA-Tencor(集成電路行業(yè)檢測設(shè)備市場的**企業(yè))***研發(fā)總監(jiān),干涉測量技術(shù)**美國上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師,創(chuàng)造多項干涉測量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算法,在光測領(lǐng)域發(fā)表23個美國專利和35篇學(xué)術(shù)論文3個研發(fā)的產(chǎn)品獲得大獎,國家教育部***批公派研究生,83年留學(xué)美國。光學(xué)輪廓儀可廣泛應(yīng)用于各類精密工件表面質(zhì)量要求極高的如:半導(dǎo)體、微機電、納米材料、生物醫(yī)療、精密涂層、科研院所、航空航天等領(lǐng)域??梢哉f只要是微型范圍內(nèi)重點部位的納米級粗糙度、輪廓等參數(shù)的測量,除了三維光學(xué)輪廓儀,沒有其它的儀器設(shè)備可以達到其精度要求。(網(wǎng)絡(luò))。 晶片輪廓儀價格NanoX-8000 的XY 平臺比較大移動速度:200mm/s 。

2)共聚焦顯微鏡方法 

共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多***盤、帶有壓電驅(qū)動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多***盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的***減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節(jié),但是在共焦圖像中,通過多***盤的操作濾除模糊細節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內(nèi)獲得高 分辨率。 每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅(qū)動器和物鏡的精確垂直位移來實現(xiàn)。200到400個共焦圖像通常在幾秒內(nèi)被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。

輪廓儀的培訓(xùn)

一、 培訓(xùn)承諾

    系統(tǒng)建成后,我公司將為業(yè)主提供為期1天的**培訓(xùn)和技術(shù)資詢;培訓(xùn)地點可以在我公司,亦或在工程現(xiàn)場;

    系統(tǒng)操作及管理人員的培訓(xùn)人數(shù)為10人,由業(yè)主指定,我公司將確保相關(guān)人員正確使用該系統(tǒng);


1.1. 培訓(xùn)對象

    系統(tǒng)操作及管理人員(培訓(xùn)對象須具有專業(yè)技術(shù)的技術(shù)人員或?qū)嶋H值班操作人員);

    其他業(yè)主指定的相關(guān)人員。


1.2. 培訓(xùn)內(nèi)容

    系統(tǒng)操作使用說明書。

    培訓(xùn)課程的主要內(nèi)容是系統(tǒng)的操作、系統(tǒng)的相關(guān)參數(shù)設(shè)定和修改和系統(tǒng)的維修與保養(yǎng)與簡單升級等,具體內(nèi)容如下:

    * 系統(tǒng)文檔解讀;

    * 系統(tǒng)的技術(shù)特點、安裝維護和系統(tǒng)管理方式;

    * 系統(tǒng)一般故障排除。





每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產(chǎn)生這樣的圖像的堆疊。

NanoX-系列輪廓儀**性客戶

? 集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 集成電路先進封裝和材料:華天科技,通富微電子,江蘇納佩斯

半導(dǎo)體,華潤安盛等

? MEMS相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 中科院蘇州納米所,中科電子46所,華東光電集成器件等

? 高 效太陽能電池相關(guān)產(chǎn)業(yè)

– 常州億晶光電,中國臺灣速位科技、山東衡力新能源等

? 微電子、FPD、PCB等產(chǎn)業(yè)

– 三星電機、京東方、深圳夏瑞科技等  



具備 Global alignment & Unit alignment

自動聚焦范圍 : ± 0.3mm

XY運動速度 **快


如果有什么問題,請聯(lián)系我們。


由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小,任何微小的黏附異物和下次均會導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。山東輪廓儀供應(yīng)商家

輪廓儀反映的是零件的宏觀輪廓。美國輪廓儀廠家

    比較大視場Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野,其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時切換多個物鏡的需要,更進一步減少總體成本。手動式物鏡轉(zhuǎn)盤能一次搭載四組物鏡,能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測量應(yīng)用。索取技術(shù)資料索取報價性能規(guī)格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範圍-100 %電腦要求機械規(guī)格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺類型手動或自動XY平臺范圍100mmx100mm相機2592x1944(5百萬像素)系統(tǒng)尺寸,寬x深x高300mmx300mmx550mm系統(tǒng)重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見的選購配件:urionNano30主動式防震臺4微米,2微米,和100納米多臺階高度標準。美國輪廓儀廠家

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司專注技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。一批專業(yè)的技術(shù)團隊,是實現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標的基礎(chǔ),是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力。公司以誠信為本,業(yè)務(wù)領(lǐng)域涵蓋磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),我們本著對客戶負責(zé),對員工負責(zé),更是對公司發(fā)展負責(zé)的態(tài)度,爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā),正積蓄著更大的能量,向更廣闊的空間、更寬泛的領(lǐng)域拓展。