納米壓印光刻（NIL）技術
EVG是納米壓印光刻（NIL）設備和集成工藝的市場**供應商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現了從2英寸化合物半導體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產。NIL是產生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學以及**近各種衍射光學元件的各種商業(yè)應用。
其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細的參數，請聯系我們岱美有限公司。
分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。天津納米壓印可以免稅嗎
EVG ® 720特征：
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術
集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式
可選的頂部對準
可選的迷你環(huán)境
適用于所有市售壓印材料的開放平臺
從研發(fā)到生產的可擴展性
系統(tǒng)外殼，可實現比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術數據
晶圓直徑（基板尺寸）
75至150毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：可選的頂部對準
自動分離：支持的
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
奧地利納米壓印供應商家EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。
EVG ® 520 HE特征：
用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用
自動化壓花工藝
EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印
氣動壓花選項
軟件控制的流程執(zhí)行
EVG ® 520 HE技術數據
加熱器尺寸：150毫米，200毫米
比較大基板尺寸：150毫米，200毫米
**小基板尺寸：單芯片，100毫米
比較大接觸力：10、20、60、100 kN
比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C
粘合卡盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)
150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200
200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT
真空：
標準：0.1毫巴
可選：0.00001 mbar
面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當的開口率，降低用電量。利用一般曝光設備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經過數十次的曝光制程。不僅制程時間長，經過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術應用在5代設備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質量的生產制程，是LCD領域中***一個創(chuàng)新任務。若加速NIL制程導入LCD生產的時程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網絡。SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備生產。
EVG ® 7200 LA特征：
專有SmartNIL ®技術，提供了****的印跡形大面積
經過驗證的技術，具有出色的復制保真度和均勻性
多次使用的聚合物工作印模技術可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本
強大且精確可控的處理
與所有市售的壓印材料兼容
EVG ® 7200 LA技術數據：
晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米）
解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2）
對準：可選的光學對準：≤±15 μm
自動分離：支持的
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。光學鏡頭納米壓印技術支持
HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。天津納米壓印可以免稅嗎
在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心，雙方合作研發(fā)用于制造光學傳感器的新材料，以及適用于大眾化市場的晶圓級光學元件。（奧地利）與WINDACH（德國），2019年11月27日――EV集團(EVG)這一全球**的為微機電系統(tǒng)、納米技術與半導體市場提供晶圓鍵合與光刻設備的供應商，***宣布與高科技工業(yè)粘合劑制造商DELO在晶圓級光學元件(WLO)領域開展合作。這兩家公司均在光學傳感器制造領域處于**地位。它們的合作將充分利用EVG的透鏡注塑成型與納米壓印光刻(NIL)加工設備與DELO先進的粘合劑與抗蝕材料，在工業(yè)，汽車，消費類電子產品市場開發(fā)與應用新型光學設備，例如生物特征身份認證，面部識別。目前雙方正在EVG的NILPhotonics?解決方案支援中心（位于EVG總部，奧地利Florian）以及DELO在德國Windach的總部展開合作。雙方致力于改善與加快材料研發(fā)周期。EVG的NILPhotonics解決方案支援中心為NIL供應鏈的客戶與合作伙伴提供了開放的創(chuàng)新孵化器，旨在通過合作來縮短創(chuàng)新設備與應用的研發(fā)與推廣周期。該中心的基礎設施包括**技術的潔凈室與支持NIL制造的主要步驟的設備，例如分步重復母版，透鏡模制，以及EVG的SmartNIL?技術，晶圓鍵合與必要的測量設備。天津納米壓印可以免稅嗎
岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司業(yè)務分為磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)等，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進，為客戶提供良好的產品和服務。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力，努力學習行業(yè)知識，遵守行業(yè)規(guī)范，植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念，全力打造公司的重點競爭力。