襯底鍵合機測樣

來源: 發(fā)布時間:2021-08-05

      晶圓級封裝的實現(xiàn)可以帶來許多經濟利益。它允許晶圓制造,封裝和測試的集成,從而簡化制造過程??s短的制造周期時間可提高生產量并降低每單位制造成本。

      晶圓級封裝還可以減小封裝尺寸,從而節(jié)省材料并進一步降低生產成本。然而,更重要的是,減小的封裝尺寸允許組件用于更***的高級產品中。晶圓級封裝的主要市場驅動因素之一是需要更小的組件尺寸,尤其是減小封裝高度。

      岱美儀器提供的EVG的晶圓鍵合機,可以實現(xiàn)晶圓級封裝的功能。 EVG鍵合機軟件,支持多語言,集成錯誤記錄/報告和恢復和單個用戶帳戶設置,可以簡化用戶常規(guī)操作。襯底鍵合機測樣

焊使用工具將導線施加到微芯片上時對其產生壓力。將導線牢固地固定到位后,將超聲波能量施加到表面上,并在多個區(qū)域中建立牢固的結合。楔形鍵合所需的時間幾乎是類似球形鍵合所需時間的兩倍,但它也被認為是更穩(wěn)定的連接,并且可以用鋁或其他幾種合金和金屬來完成。

      不建議業(yè)余愛好者在未獲得適當指導的情況下嘗試進行球焊或楔焊,因為焊線的敏感性和損壞電路的風險。已開發(fā)的技術使這兩個過程都可以完全自動化,并且?guī)缀醪辉傩枰止ね瓿梢€鍵合。蕞終結果是實現(xiàn)了更加精確的連接,這種連接往往比傳統(tǒng)的手工引線鍵合方法產生的連接要持久。 研究所鍵合機國內用戶旋涂模塊-適用于GEMINI和GEMINI FB用于在晶圓鍵合之前施加粘合劑層。

鍵合卡盤承載來自對準器對準的晶圓堆疊,以執(zhí)行隨后的鍵合過程。可以使用適合每個通用鍵合室的**卡盤來處理各種尺寸的晶圓和鍵合應用。 EVG?501/EVG?510/EVG?520IS是用于研發(fā)的鍵合機。 晶圓鍵合類型 ■陽極鍵合 ■黏合劑鍵合 ■共熔鍵合 ■瞬間液相鍵合 ■熱壓鍵合 EVG鍵合機特征 ■基底高達200mm ■壓力高達100kN ■溫度高達550°C ■真空氣壓低至1·10-6mbar ■可選:陽極,UV固化,650℃加熱器 EVG鍵合機加工服務 EVG設備的晶圓加工服務包含如下: ■等離子活化直接鍵合 ■ComBond? -硅和化合物半導體的導電鍵合 ■高真空對準鍵合 ■臨時鍵合和熱、機械或者激光剖離 ■混合鍵合 ■黏合劑鍵合 ■集體D2W鍵合

熔融和混合鍵合系統(tǒng):

熔融或直接晶圓鍵合可通過每個晶圓表面上的介電層長久連接,該介電層用于工程襯底或層轉移應用,例如背面照明的CMOS圖像傳感器。

混合鍵合擴展了與鍵合界面中嵌入的金屬焊盤的熔融鍵合,從而允許晶片面對面連接?;旌辖壎ǖ闹饕獞檬歉呒?D設備堆疊。

EVG的熔融和混合鍵合設備包含:EVG301單晶圓清洗系統(tǒng);EVG320自動化單晶圓清洗系統(tǒng);EVG810LT低溫等離子基活系統(tǒng);EVG850LTSOI和晶圓直接鍵合自動化生產鍵合系統(tǒng);EVG850SOI和晶圓直接鍵合自動化生產鍵合系統(tǒng);GEMINIFB自動化生產晶圓鍵合系統(tǒng);BONDSCALE自動化熔融鍵合生產系統(tǒng)。 我們的服務包括通過安全的連接,電話或電子郵件,對包括現(xiàn)場驗證,進行實時遠程診斷和設備/工藝排除故障。

業(yè)內主流鍵合工藝為:黏合劑,陽極,直接/熔融,玻璃料,焊料(包括共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴散/熱壓縮。采用哪種黏合工藝取決于應用。EVG500系列可靈活配置選擇以上的所有工藝。

奧地利的EVG擁有超過25年的晶圓鍵合機制造經驗,擁有2000多擁有多年晶圓鍵合經驗的員工,同時,GEMINI是使用晶圓鍵合的HVM的行業(yè)標準。

根據(jù)型號和加熱器尺寸,EVG500系列可以用于碎片和50 mm至300 mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產、研發(fā),并且可以通過簡單的方法進行大批量生產,因為鍵合程序可以轉移到EVG GEMINI大批量生產系統(tǒng)中。 EVG鍵合機軟件是基于Windows的圖形用戶界面的設計,注重用戶友好性,可輕松引導操作員完成每個流程步驟。安徽EVG850 DB鍵合機

EVG的GEMINI系列是頂及大批量生產系統(tǒng),同時結合了自動光學對準和鍵合操作功能。襯底鍵合機測樣

EV Group開發(fā)了MLE?(無掩模曝光)技術,通過消 除與掩模相關的困難和成本,滿足了HVM世界中設計靈活性和蕞小開發(fā)周期的關鍵要求。 MLE?解決了多功能(但緩慢)的開發(fā)設備與快 速(但不靈活)的生產之間的干擾。它提供了可擴展的解決方案,可同時進行裸片和晶圓級設計,支持現(xiàn)有材料和新材料,并以高可靠性提供高速適應性,并具有多級冗余功能,以提高產量和降低擁有成本(CoO)。

EVG的MLE?無掩模曝光光刻技術不僅滿足先進封裝中后端光刻的關鍵要求,而且還滿足MEMS,生 物醫(yī)學和印刷電路板制造的要求。 襯底鍵合機測樣

岱美儀器技術服務(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型公司。公司業(yè)務分為磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發(fā)等,目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進,為客戶提供良好的產品和服務。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,努力學習行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念,全力打造公司的重點競爭力。