光干涉膜厚儀芯片行業(yè)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-08-03

技術(shù)介紹:

紅外干涉測量技術(shù), 非接觸式測量。采用Michaelson干涉方法,紅外波段的激光能更好的穿透被測物體,準(zhǔn)確的得到測試結(jié)果。


產(chǎn)品簡介:FSM 413EC 紅外干涉測量設(shè)備

適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度   

溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

硅片厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側(cè)壁角度...


當(dāng)測量斑點(diǎn)只有1微米(μm)時(shí),需要用您自己的顯微鏡或者用我們提供的整個(gè)系統(tǒng)。光干涉膜厚儀芯片行業(yè)

濾光片整平光譜響應(yīng)。

ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.

ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.

ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.

420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.

515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.

520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.

520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.

550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. Filmetrics F10-AR膜厚儀推薦產(chǎn)品紫外光可測試的深度:***的薄膜(SOI 或 Si-SiGe)或者厚樣的近表面局部應(yīng)力。

生物醫(yī)療設(shè)備涂層應(yīng)用生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準(zhǔn)備方面會(huì)用到許多類型的涂層。 有些涂層是為了保護(hù)設(shè)備免受腐蝕,而其他的則是為了預(yù)防組 織損傷、***或者是排異反應(yīng)。 藥 物傳輸涂層也變得日益普通。 其它生物醫(yī)學(xué)器械,如血管成型球囊,具有**的隔膜,必須具有均勻和固定的厚度才能正常工作。

這些涂層厚度的測量方法各不相同,但有一件事是確定的。使用普通方法 (例如,在涂層前后稱某一部分的重量), 無法檢測到會(huì)導(dǎo)致器械故障的涂層不完全覆蓋或涂層的不均勻性。


FSM 413MOT 紅外干涉測量設(shè)備:

適用于所有可讓紅外線通過的材料:硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

應(yīng)用:

   襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

   平整度

   厚度變化 (TTV)

   溝槽深度

   過孔尺寸、深度、側(cè)壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

不同半導(dǎo)體材料的厚度

   環(huán)氧樹脂厚度

   襯底翹曲度

   晶圓凸點(diǎn)高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側(cè)壁角度...

如果您想了解更多關(guān)于FSM膜厚儀的技術(shù)問題,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器。 產(chǎn)品名稱:紅外干涉厚度測量設(shè)備。

    更可加裝至三個(gè)探頭,同時(shí)測量三個(gè)樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái),由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。F70:*通過在F20基本平臺(tái)上增加鏡頭,使用Filmetrics*新的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設(shè)備的測量范圍極大的拓展至。F10-RT:在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測量,特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測量。PARTS:在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。**膜厚測量儀系統(tǒng)F20使用F20**分光計(jì)系統(tǒng)可以簡便快速的測量厚度和光學(xué)參數(shù)(n和k)。您可以在幾秒鐘內(nèi)通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數(shù)。任何具備基本電腦技術(shù)的人都能在幾分鐘內(nèi)將整個(gè)桌面系統(tǒng)組裝起來。F20包括所有測量需要的部件:分光計(jì)、光源、光纖導(dǎo)線、鏡頭**和Windows下運(yùn)行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。膜層實(shí)例幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括:sio2(二氧化硅)sinx(氮化硅)dlc(類金剛石碳)photoresist。F20-UV測厚范圍:1nm - 40μm;波長:190-1100nm。中芯國際膜厚儀值得買

F3-s980 是波長為980奈米的版本,是為了針對(duì)成本敏銳的應(yīng)用而設(shè)計(jì)。光干涉膜厚儀芯片行業(yè)

不管您參與對(duì)顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造,F(xiàn)ilmetrics 都能夠提供您所需要的...測量液晶層- 聚酰亞胺、硬涂層、液晶、間隙測量有機(jī)發(fā)光二極管層- 發(fā)光、電注入、緩沖墊、封裝對(duì)于空白樣品,我們建議使用 F20 系列儀器。 對(duì)于圖案片,F(xiàn)ilmetrics的F40用于測量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應(yīng)用***使用。

測量范例此案例中,我們成功地測量了藍(lán)寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度。與Filmetrics專有的ITO擴(kuò)散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器,可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時(shí)測量透射率和反射率以確定厚度,折射率,消光系數(shù)。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴(kuò)散,這個(gè)擴(kuò)展的波長范圍是必要的。 光干涉膜厚儀芯片行業(yè)

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識(shí),遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。