福建納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

來源: 發(fā)布時間:2021-05-14

       EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說:“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復雜的挑戰(zhàn),幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù),我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?!霸诰哂斜Wo客戶IP的強大政策的框架內(nèi),我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的,以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?!?

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾,即在工業(yè),企業(yè)和消費者等所有主要市場領(lǐng)域釋放AR在大眾市場的應(yīng)用,并遵循公司模塊計劃的推出。 EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。福建納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

      **的衍射波導設(shè)計商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的**供應(yīng)商,以帶來高性能增強現(xiàn)實( AR)波導以當今業(yè)界*低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關(guān)鍵光學組件。

      WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論:“這一合作伙伴關(guān)系標志著增強現(xiàn)實行業(yè)的轉(zhuǎn)折點,是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強現(xiàn)實解決方案的關(guān)鍵步驟,這是迄今為止尚無法實現(xiàn)的能力。” EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底,AR終端用戶產(chǎn)品的市場價格將低于600美元。“這項合作是釋放AR可穿戴設(shè)備發(fā)展的關(guān)鍵;我們共同處于有利位置,可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新,以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑。” 重慶納米壓印國內(nèi)代理EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術(shù)

■**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求


EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自動化的全場納米壓印解決方案,適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術(shù),具有出色的復制保真度

■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)

■集成式壓印,UV固化,脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式


■適用于所有市售壓印材料的開放平臺


    面板廠為補償較低的開口率,多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù),但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程,可確保適當?shù)拈_口率,降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板,需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長,經(jīng)過多次曝光后,在圖樣間會形成細微的縫隙,無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備,可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板,6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示,在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程,是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導入LCD生產(chǎn)的時程,偏光膜企業(yè)的營收可能減少。(來自網(wǎng)絡(luò)。EVG高達300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級光學(WLO)的制造。

IQ Aligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應(yīng)用

■用于全場納米壓印應(yīng)用

■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能


紫外線壓印_紫外線固化


印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章


EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線。EVG7200納米壓印應(yīng)用

EVG ? 7200 LA是大面積SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。福建納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米,設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)


EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu),具有****的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


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