晶片納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-03-26

EVG ® 720特征:

體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度

專有SmartNIL ®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)

集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造

盒帶到盒帶自動處理以及半自動研發(fā)模式

可選的頂部對準(zhǔn)

可選的迷你環(huán)境

適用于所有市售壓印材料的開放平臺

從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性

系統(tǒng)外殼,可實(shí)現(xiàn)比較好過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)

晶圓直徑(基板尺寸)

75至150毫米

解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:SmartNIL ®

曝光源:大功率LED(i線)> 400 mW /cm2

對準(zhǔn):可選的頂部對準(zhǔn)

自動分離:支持的

迷你環(huán)境和氣候控制:可選的

工作印章制作:支持的


EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。晶片納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)

■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)

■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)

■全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復(fù)使用工作印章

■具備工作印章制造能力


EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作

■用于晶圓級光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)

■不同類型的母版的簡單實(shí)現(xiàn)

■可變的光刻膠分配模式

■分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像

■用于壓印和脫模的原位力控制


安徽聯(lián)電納米壓印高 效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和**少殘留層,易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。

EVG ® 6200 NT是SmartNIL

UV納米壓印光刻系統(tǒng)。


用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了**

新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。


UV納米壓印光刻

EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線,包括不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī),微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達(dá)到了納米壓印的長期預(yù)期,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級結(jié)構(gòu)的高性能,低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。


岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。

EVG ® 720自動SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

自動全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)


EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu),具有****的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學(xué)元件( DOEs)。

*分辨率取決于過程和模板


如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng),獲得更多信息。 步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。河北納米壓印供應(yīng)商家

EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代(550 mm x 650 mm)的基板上實(shí)現(xiàn)。晶片納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米

結(jié)合EVG的SmartNIL一個(gè)完全模塊化平臺®技術(shù)支持AR / VR,3D傳感器,光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用


EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟 蹤系統(tǒng),將清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻(NIL)工藝結(jié)合在一個(gè)平臺上,用于直徑比較大為300 mm的晶圓。它是***個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供比較大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以比較好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。


晶片納米壓印圖像傳感器應(yīng)用

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位,是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗(yàn)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)創(chuàng)始人陳玲玲,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。