EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
用于大面積****的共形納米壓印光刻。
EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟有效的方法，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。
SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40 nm *的出色保形壓印結果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設備功能（包括****的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。
*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。鏡片成型納米壓印免稅價格
HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結構
支持各種結構尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
青海納米壓印微流控應用EV Group提供混合和單片微透鏡成型工藝，能夠輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。
為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產(chǎn)**小40 nm *或更小的結構
聯(lián)合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離，可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時間**快
優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板
納米壓印光刻（NIL） -SmartNIL ®
用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝
介紹：
EVG是納米壓印光刻（NIL）的市場**設備供應商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術多年，掌握了NIL并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術通過多年的研究，開發(fā)和現(xiàn)場經(jīng)驗進行了優(yōu)化，以解決常規(guī)光刻無法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印結果。
如果要獲得詳細信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司或者訪問官網(wǎng)。
EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)。
納米壓印微影技術可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography；NIL)，現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據(jù)ETNews報導，南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組，未確認NIL設備實際圖樣形成能力，直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露，若引進相關設備，將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機，像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后，再以壓印機接觸施加壓力，印出面板圖樣。之后再經(jīng)過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣，不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程，但省落偏光膜貼附制程，可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣，將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高，因配線較多，較難確保開口率(ApertureRatio)。納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。四川納米壓印要多少錢
EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。鏡片成型納米壓印免稅價格
納米壓印設備哪個好？預墨印章用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。該技術用于表面化學的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。
納米壓印設備可以進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。
將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉變溫度以上，從而將材料轉變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
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岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿(mào)易、轉口貿(mào)易，商務信息咨詢服務。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的公司。岱美儀器技術服務擁有一支經(jīng)驗豐富、技術創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團隊，以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務不斷開拓創(chuàng)新，追求出色，以技術為先導，以產(chǎn)品為平臺，以應用為重點，以服務為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值，提供更優(yōu)服務。岱美儀器技術服務始終關注自身，在風云變化的時代，對自身的建設毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術服務在行業(yè)的從容而自信。