EVG610特征：
頂部和底部對準(zhǔn)能力
高精度對準(zhǔn)臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持***的UV-LED技術(shù)
**小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
EVG610附加功能：
鍵對準(zhǔn)
紅外對準(zhǔn)
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）
標(biāo)準(zhǔn)光刻：比較大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動分離：不支持
工作印章制作：外部
納米壓印設(shè)備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。山東納米壓印學(xué)校會用嗎
納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：
新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm
資料來源：EVG
8.**小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG 山東納米壓印自動化測量納米壓印設(shè)備哪個好？預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。
EVG ® 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)
分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作
EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進行直接圖案化。這種方法允許從**
大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。
EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)
NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗證的創(chuàng)新孵化器。
歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。
EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實現(xiàn)。
NIL已被證明是在大面積上實現(xiàn)納米級圖案的相當(dāng)有成本效益的方法，因為它不受光學(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供比較好圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。
EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場壓印技術(shù)，可提供功能強大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。
新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。微透鏡納米壓印技術(shù)服務(wù)
EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。山東納米壓印學(xué)校會用嗎
納米壓印光刻（NIL）技術(shù)
EVG是納米壓印光刻（NIL）設(shè)備和集成工藝的市場**供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并實現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300 mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的**有前途且相當(dāng)有成本效益的工藝，可用于生物MEMS，微流體，電子學(xué)以及**近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。
其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號包含：
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號包含：
EVG®510HE
EVG®520HE
詳細的參數(shù)，請聯(lián)系我們岱美有限公司。
山東納米壓印學(xué)校會用嗎
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大，現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團隊，各種專業(yè)設(shè)備齊全。在岱美儀器技術(shù)服務(wù)近多年發(fā)展歷史，公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術(shù)服務(wù)等。我公司擁有強大的技術(shù)實力，多年來一直專注于磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，堅持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿意”的質(zhì)量方針，贏得廣大客戶的支持和信賴。