山西納米壓印質保期多久

來源: 發(fā)布時間:2020-01-02

EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對準系統(tǒng)®技術,在100毫米范圍內。

EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對準技術。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時間以及有效的全球服務支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產)的理想解決方案。該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本的技術,大批量替代光刻技術。山西納米壓印質保期多久

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術,可用于顯示器,生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。例如,SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印,以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化,以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備的生產。此外,SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能,**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度,這對于實現(xiàn)衍射光學元件(DOE)至關重要。


特征:

體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術,多使用聚合物印模技術

經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小

大面積全場壓印

總擁有成本比較低

在地形上留下印記

對準能力

室溫過程

開放式材料平臺 聯(lián)電納米壓印國內用戶EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。

EVG ® 770特征:

微透鏡用于晶片級光學器件的高 效率制造主下降到納米結構為SmartNIL ®

簡單實施不同種類的大師

可變抗蝕劑分配模式

分配,壓印和脫模過程中的實時圖像

用于壓印和脫模的原位力控制

可選的光學楔形誤差補償

可選的自動盒帶間處理


EVG ® 770技術數(shù)據(jù):

晶圓直徑(基板尺寸):100至300毫米

解析度:≤50 nm(分辨率取決于模板和工藝)

支持流程:柔軟的UV-NIL

曝光源:大功率LED(i線)> 100 mW /cm2

對準:頂側顯微鏡,用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

較早印刷模具到模具的放置精度:≤1微米

有效印記區(qū)域:長達50 x 50毫米

自動分離:支持的


前處理:涂層:液滴分配(可選)


EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng),從碎片到比較大150毫米。

該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。


EVG提供不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機,微透鏡成型設備以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復雜的微結構和納米結構以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。

NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)

NILPhotonics能力中心是經過驗證的創(chuàng)新孵化器。


歡迎各位客戶來樣制作,驗證EVG的納米壓印設備的性能。


EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。重慶納米壓印服務為先

EVG620 NT支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對準選項。山西納米壓印質保期多久

納米壓印應用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。


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岱美儀器技術服務(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術團隊,各種專業(yè)設備齊全。在岱美儀器技術服務近多年發(fā)展歷史,公司旗下現(xiàn)有品牌岱美儀器技術服務等。我公司擁有強大的技術實力,多年來一直專注于磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關配套服務,國際貿易、轉口貿易,商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】的發(fā)展和創(chuàng)新,打造高指標產品和服務。岱美儀器技術服務(上海)有限公司主營業(yè)務涵蓋磁記錄,半導體,光通訊生產,測試儀器的批發(fā),堅持“質量保證、良好服務、顧客滿意”的質量方針,贏得廣大客戶的支持和信賴。