F54自動化薄膜測繪Filmetrics F54 系列的產(chǎn)品能以一個電動R-Theta 平臺自動移動到選定的測量點以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度, 樣品直徑達450毫米
可選擇數(shù)十種內(nèi)建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無數(shù)量限制之測量點.*需具備基本電腦技能的任何人可在數(shù)分鐘內(nèi)自行建立配方
F54 自動化薄膜測繪只需聯(lián)結(jié)設(shè)備到您運行Windows?系統(tǒng)計算機的USB端口, 可在幾分鐘輕松設(shè)置
不同的型號主要是由厚度和波長范圍作為區(qū)別。通常較薄的膜需要較短波長作測量(如F54-UV) 用來測量較薄的膜,而較長的波長可以用來測量更厚，更粗糙，或更不透明的薄膜 F50-UV測厚范圍：5nm-40μm；波長：190-1100nm。Filmetrics F-HC膜厚儀現(xiàn)場服務(wù)
濾光片整平光譜響應(yīng)。
ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器.
ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器.
ND#2 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度 + ND#2 衰減整平濾波器.
420nm 高通濾波器.420nm 高通濾波器於濾波器架.
515nm 高通濾波器.515nm 高通濾波器於濾波器架.
520nm 高通濾波器 +ND1.520nm 高通濾波器 + ND#1 十倍衰減整平濾波器.
520nm 高通濾波器 + ND#2520nm 高通濾波器 + ND#2 一百倍衰減整平濾波器.
550nm 高通濾波器550nm 高通濾波器於濾波器架. 北京膜厚儀供應(yīng)商應(yīng)用：襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)，平整度。
非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。
非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對不同沉積條件是獨特的，必須有精確的厚度測量。 測量厚度時還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。
Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測量程序同時測量和輸出每個要求的硅薄膜參數(shù)， 并且“一鍵”出結(jié)果。
測量范例多晶硅被***用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性。隨著沉積和退火條件的改變，這些特性隨之改變，所以準(zhǔn)確地測量這些參數(shù)非常重要。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間，加入二氧化硅層，以增加光學(xué)對比，其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測得。F20可以很容易地測量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)，以及二氧化硅夾層厚度。Bruggeman光學(xué)模型被用來測量多晶硅薄膜光學(xué)特性。
參考材料
備用 BK7 和二氧化硅參考材料。
BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡
BG-F10-RT平臺系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡
REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn)
REF-Al-3mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn)
REF-BK71?" x 1?" BK7 反射基準(zhǔn)。
REF-F10RT-FusedSilica-2Side背面未經(jīng)處理的石英，用于雙界面基準(zhǔn)。
REF-Si-22" 單晶硅晶圓
REF-Si-44" 單晶硅晶圓
REF-Si-66" 單晶硅晶圓
REF-Si-88" 單晶硅晶圓
REF-SS3-Al專為SS-3樣品平臺設(shè)計之鋁反射率基準(zhǔn)片
REF-SS3-BK7專為SS-3樣品平臺設(shè)計之BK7玻璃反射率基準(zhǔn)片
REF-SS3-Si專為SS-3樣品平臺設(shè)計之硅反射率基準(zhǔn)片 所有的 Filmetrics 型號都能通過精確的光譜反射建模來測量厚度 (和折射率)。
F54包含的內(nèi)容：
集成光譜儀/光源裝置
MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器
顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7
參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000
厚度標(biāo)準(zhǔn) 聚焦/厚度標(biāo)準(zhǔn)4", 6" and 200mm
參考晶圓真空泵備用燈
型號厚度范圍*波長范圍
F54:20nm-40μm 380-850nm
F54-UV:4nm-30μm 190-1100nm
F54-NIR:40nm-100μm 950-1700nm
F54-EXR:20nm-100μm 380-1700nm
F54-UVX:4nm-100μm190-1700nm
*取決于材料與顯微鏡
額外的好處：每臺系統(tǒng)內(nèi)建超過130種材料庫, 隨著不同應(yīng)用更超過數(shù)百種應(yīng)用工程師可立刻提供幫助（周一 - 周五）網(wǎng)上的 “手把手” 支持 (需要連接互聯(lián)網(wǎng))硬件升級計劃 產(chǎn)品名稱：紅外干涉厚度測量設(shè)備。單層膜膜厚儀實惠價格
F50測厚范圍：20nm-70μm；波長：380-1050nm。Filmetrics F-HC膜厚儀現(xiàn)場服務(wù)
備用光源：
LAMP-TH1-5PAK：F10、F20、F30、F40、F50、和 F60 系統(tǒng)的非紫外光源。 5個/盒。1200 小時平均無故障。
LAMP-TH：F42F42 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。
LAMP-THF60：F60 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。
LAMP-THF80：F80 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。
LAMP-D2-L10290：L10290 氘光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。
LAMP-TH-L10290：L10290 鎢鹵素光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。
LAMP-D2-***T2：***T2光源需更換氘燈, 而鹵素?zé)艄庠葱韪鼡Q使用LAMP-TH1-5PAK. Filmetrics F-HC膜厚儀現(xiàn)場服務(wù)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主要經(jīng)營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術(shù)團隊和良好的市場口碑。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個細節(jié)，公司旗下磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應(yīng)客戶的變化需求。